扫路车操作台控制器，扫路车操作台控制器接线图

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“神兽”光刻机之战，大胆猜测哪一家中国公司能够解光刻机之围？

    光刻机集人类智慧于大成，一台顶级光刻机的关键零部件来自不同的西方国家，德国的镜头、美国的光栅、瑞典的轴承、法国的阀件等等，最麻烦的这些顶级的零件对我国是禁运的。可以说我国的光刻机与荷兰ASML光刻机的差距，客观上反映了我国与西方在精密制造领域的差距。

    我国的光刻机起步较晚，同时还遭遇了西方国家的技术封锁，所以目前制造出来的光刻机主要集中于65nm及其以下的工艺。

    目前，我国生产光刻机的企业是上海微电子，成立于2002年，可以量产制程工艺为65nm的光刻机，距离ASML的7nm EUV光刻机还有很远的距离，而且光刻机技术无法实现跳跃。

    上海微电子也是一家系统集成商，自己并不生产关键零部件，做不出高端光刻机也不是它的责任。现在也只能做好中低端光刻机，慢慢培养国内的零部件商，一点一点往上做。

    目前，光刻机的老大是荷兰的ASML，垄断了高达80%的市场份额，最先进的EUV光刻机全球也只有ASML能够生产。

    AMSL光刻机90%的零部件向外采购，整个设备的不同部位同时获得了世界商最先进的技术，德国的光学设备、美国的计量设备和光源，ASML要做的是精密控制。7nm EUV光刻机有13个系统，3万个分件，每个动作都要精细，将误差分散到这13个系统中。

如果按照光刻机的发展，我可以负责任的告诉你，永远没有可能！

因为光刻机是集欧美最新最顶级技术大成的产品，我们国家不可能在所有领域都超越别人，只要有一个短板就无法完成！

但是现在科技日新月异，难保不会出现新的纳米技术让我们弯道超车！

就如同现在的5G，已经和以前的通信技术完全不同。

所以我国如果在光刻机上超越了现在的ASML那一定是另辟蹊径，在芯片加工上走出了一条新路。

现在科学技术日新月异，谁也不能预测万物之灵的人类会发展到哪一步，万事皆有可能！

我相信我们国家终会登顶世界之巅，带领智慧无边的人类征服宇宙！

在今年3月份的时候，中芯国际深圳工厂从荷兰订购的大型光刻机就到货了，然而这并非是EUV光刻机，而是普通大型光刻机。这能显著提升中芯国际的产能，预计14nm月产能达到4K，7月达到9K，12月达到15K。此外中芯国际的N+1、N+2代工艺也在路上了，这相当于有台积电的7nm低功耗和高性能能级别。

目前我国的重大晶圆制造厂主要是中芯国际、长江储存和合肥长鑫，其中中芯国际是龙头，在全球也能排到第五位。而大规模集成电路的核心则是光刻机，这也是目前世界上最顶尖的技术之一。高技术自然是高价格，目前一台高端光刻机能买到6亿元，而且有钱也不一定能买到。当下世界上能提供商用光刻机的厂商只有3家：荷兰的ASML、日本的尼康和佳能。而最高端的产品是ASML独家生意，别无分店。

在进入7nm的关节节点时，只有EUV光刻机能完成此重任。而且ASML正在研发下一代EUV光刻机，它能通过提升透镜规格使新一代光刻机的微缩分辨率、套准精度核心指标提升七成！可以说我国突破光刻机之围的关键是如果从AMSL手中买到EUV光刻机。

中芯国际早在2018年就向AMSL订购了一台EUV光刻机。但是交付之路却异常坎坷。尤其是美国政府千方百计阻挠AMSL向中国交付机器，美国国务卿蓬佩奥甚至亲自游说荷兰政府。更加诡异的是，在2018年末AMSL交付的关键节点上，ASML的关键供应商Prodrive突发火灾，导致生产线都烧毁了。不知道EUV光刻机合适能到货，以解我国之围。

如果说自主技术，其实我国的光刻机还停留在上海微电子（SMEE）的90nm水平，而事实上它却代表着国内最先进的光刻机水准。而光刻机巨头ASML目前的水平是7nm EUV，事实上它也正朝着更先进的极紫外光刻机5nm工艺水平迈进了。国内外水平差距明显。

--图源上海微电子官网

光刻机是半导体芯片制造业中的最核心设备，是芯片制造过程中的重要组成部分，可以说光刻机直接决定了芯片的质量。同时它也代表着高端半导体装备制造水平和支撑着集成电路产业朝前发展。

不过目前而言，荷兰ASML垄断了高端光刻机市场份额，日本尼康和佳能处于中端但同时竞争中低端市场。而上海微电子只有低端光刻机市场，至于28nm，14nm和7nm水平，其实距离还是比较遥远。

光刻机涉及的技术非常复杂，需要很多顶级企业合作来完成，荷兰ASML也并非是一己之力，而是和英特尔、台积电、三星、海思等众多芯片巨头来通力合作。我国制造高端光刻机有各种阻滞问题，一方面因素就源于咱没有实力单独生产这些高端零部件，这也是我国光刻机长期停滞90mm的原因。

其次，光刻机最难的是紫外激光光源。需要经过光束矫正器、能量控制器、光束形状设置、遮光器等造成频率稳定、能量均匀的光源。还有透镜模组，要保证光通过物镜不变形，这都是极其复杂的系统工程。这些无疑给生产和制造带来巨大的阻力。

再者，光刻机对准系统需要具有近乎完美的精密机械工艺。涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术。

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